文档介绍： ＭＶＡ模式ＴＦＴ－ＬＣＤ用彩色滤光片制程解析.docMVA模式TFT-LCD用彩色滤光片制程解析文章编号:1006-6268(2009)03-0028-06 摘要:彩色滤光片简称为CF，是TFT-LCD面板最主要的部件之一，其成本约占面板材料总成本的15%~30%。彩色滤光片的主要制程有BM的制作、RGB的制作、PS的制作、MVA体的制作。关键词:广视角;彩色滤光片;衬垫;黑矩阵;光阻中图分类号:TN141.9文献标识码:B TheProcessAnalysisofMVAModeTFT-LCDColorFilter FEIMin-quan1，FEIYue2 (1.panyShanXiXianYang712021，China;2.ThePDPR&DCenteratBeijingofCenturyDoubleRainbowinSichuanBeiJing100084，China) Abstract:TheCFisColorfiltershortenedform，itistheuppermostamongpartsofTFT-LCDpanel，costis15%~30%ofwholepanelmaterialcost.ThemostlyprocessofCFconsistofBM、RGB、PSandMVAfacture. Keywords:MVA;CF;PS;BM;photo-resist 1彩色滤光片的作用 TFT-LCD是一种被动发光显示器件，只有在背光模块的照射下，TFT-LCD才能正常显示图像，而TFT-LCD的彩色化则是由彩色滤光片来实现的。通过改变施加于液晶面板的电压，使液晶分子的排列发生变化，产生类似于光阀的效应，从而控制背光模块光线的透过量，产生相应的黑白画面。若要显示彩色，则需要通过R、G、B三种颜色的光线进行空间合成，彩色滤光片就是通过R、G、B三种滤光层的作用来产生R、G、B三种颜色的组件。 2MVA模式TFT-LCD彩色滤光片的结构 2.1MVA模式CF结构 MVA模式的CF主要由玻璃基板、黑矩阵(BM)膜、彩色(RGB)膜、保护膜(OC)、透明导电(ITO)膜、衬垫(PS)、MVA体7部分组成。各部分的作用如下: ⑴玻璃基板:彩色滤光片的载体，通常TFT-LCD面板制造商均要求CF和TFT使用相同材质的玻璃基板，以获取相同的膨胀系数; ⑵黑色矩阵(BM):BM膜层可防止像素间的漏光，并可增加色彩的对比度; ⑶彩色滤光(RGB)层:以彩色光阻为材料的滤光膜层，是CF产生RGB彩色光的主要膜层; ⑷保护膜(OC)层:主要是保护彩色滤光层以及增加表面的平滑性，此外兼具黑色矩阵与透明电极层间的绝缘材料，并起隔离液晶与防止污染等作用。⑸ITO透明导电膜:CF的ITO电极与液晶Pattern电极构成正负极以驱动液晶分子旋转，透明电极因具备导电性与透光性，因此品质上要求其低电阻值及高透光率; ⑹衬垫(PS):PS主要用来支撑CF基板和Array基板，确保它们之间的间隙均匀，提高CELL成盒的良率; ⑺MVA体:MVA凸起物用来使每个子像素均形成4畴取向，以此来产生宽视角。 3MVA模式CF的工艺制程目前，MVA模式的CF广泛采用光刻型颜料分散工艺制作。 3.1光刻型颜料分散法制程工艺流程框图 3.2工艺步骤及要求光刻型颜料分散法各主要工艺均需经过涂胶、前烘、曝光、显影、后烘5个步骤来完成。⑴涂胶:这是色胶的成膜过程，涂胶时角膜必须均匀，且无灰尘、杂质等污染物。涂胶的方法很多，但高世代面板一般采用刮涂的方式。⑵前烘:主要目的是去除胶膜中的溶剂，通常采用热板或热风循环对流式烘箱，要求各烘培点的温度偏差要小。前烘温度与溶剂的沸点、光刻胶的种类及胶膜的厚度有关。当溶剂的沸点在130℃~180℃时，前烘温度应为100℃~110℃。⑶曝光:使用高压***灯，透过掩模板，照射光刻胶，使受到光照的部分发生光化学反应，经显影后形成与掩模板相同的光刻图形。⑷显影:把经过曝光的基片放在特定的显影液中，显影液按照正性或负性光刻胶的特性，与曝光后或未曝光的光刻胶进行反应，溶解需要去除的部分，从而形成所需的图形。⑸后烘:又称坚膜。将显影并漂洗之后的基片在大约250℃的温度下进行固化处理，目的是去除残留溶剂和水分，使胶膜更致密坚硬，提高胶膜与基片之间的附着力。 3.3主要工艺解析⑴BM制程解析 BM制程是CF制程中的关键，BM阵列制作的好坏，将直接影响着CF的质量和良率，因此，该制程在CF制程中是重中之重。①树脂型BM制程框图②树脂型BM制程工艺刷洗:在0.6~0.7mm厚的素玻璃基板上下各有一组高速旋转、压入量为20μm的毛刷，基板上下对称分布着压力为0.2MPa的碱性清洗液雾状喷头，以洗净油性及难以清除的污染物。纯水清洗:在基板上下对称分布着雾状 内容来自淘豆网www.taodocs.com转载请标明出处.

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